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双面对准投影式光刻机招标公告

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招标公告 ****受中国XXXXX公司西安飞行自动控制研究所委托，对双面对准投影式光刻机进行公开招标。现欢迎合格投标人参加投标。1. 招标条件本招标项目双面对准投影式光刻机招标人为中国XXXXX公司西安飞行自动控制研究所，招标项目资金来自国拨资金（资金来源），出资比例为100%。该项目已具备招标条件，现对双面对准投影式光刻机进行公开招标。2.项目概况与招标范围招标编号：XXXXX8/01设备名称：双面对准投影式光刻机数量：壹套项目概况与招标范围：双面对准投影式光刻机3. 投标人资格要求3.1 招标文件简要技术要求：设备用途：双面对准投影式光刻机通过微缩投影成像方式，把掩模版上MEMS微结构图形以****分辨率、****精度、****效率的方式分步重复曝光在涂有胶层的硅片表面，并且能够通过背对准方式实现同一晶圆的双面加工。其他详见招标文件具体要求。3.2资格业绩要求：（1）资质要求：投标人应具备有效的营业执照或事业单位法人证书，投标文件中提供复印件。制造商资质要求：制造商应具备有效的营业执照或事业单位法人证书，投标文件中提供复印件。（2）财务要求：投标文件中提供2022年或2023...

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